Chemické procesní inženýrství a simulační metody I : teoretické podklady /
| Hlavní autor: | Vaněk, Tomáš, 1949- |
|---|---|
| Korporativní autor: | Vysoká škola chemicko-technologická v Praze |
| Další autoři: | Kohout, Martin, Basařová, Pavlína, 1965- |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
Praha : Vysoká škola chemicko-technologická v Praze, 2021 |
| Vydání: | Vydání první |
| Témata: | |
| Fyzický popis: |
249 stran : ilustrace ; 29 cm |
|
Z důvodu uzavření knihovny je až do odvolání zablokována možnost zadávání požadavků na výpůjčky. Děkujeme za pochopení.
| status | půjčeno do | dílčí knihovna | sbírka / doba vyhledání | umístění | popis | pozn. | Skladová signatura |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
Jen do studovny
|
|
Sklad / do 1 hodiny
|
4-1464.619 |
English
Čeština 