Chemické procesní inženýrství a simulační metody I : teoretické podklady /

Hlavní autor: Vaněk, Tomáš, 1949-
Korporativní autor: Vysoká škola chemicko-technologická v Praze
Další autoři: Kohout, Martin, Basařová, Pavlína, 1965-
Jazyk: Čeština
Vydáno: Praha : Vysoká škola chemicko-technologická v Praze, 2021
Vydání: Vydání první
Témata:
Fyzický popis: 249 stran : ilustrace ; 29 cm
Knihy
Uloženo v:

Z důvodu uzavření knihovny je až do odvolání zablokována možnost zadávání požadavků na výpůjčky. Děkujeme za pochopení.


status  půjčeno do  dílčí knihovna  sbírka / doba vyhledání  umístění  popis  pozn.  Skladová signatura 
Jen do studovny
 
 
Sklad / do 1 hodiny
4-1464.619